기존 불화아르곤 방식보다 세밀한 회로 구현 가능

삼성전자 VI 라인 전경  <사진=삼성전자 제공>
▲ 삼성전자 VI 라인 전경  <사진=삼성전자 제공>

[폴리뉴스 안희민 기자]이재용 삼성전자 부회장이 삼성전자 반도체 핵심 전략기술인 EUV 노광기술이 적용된 생산라인을 방문했다.

삼성전자는 이 부회장은 20일 화성사업장을 찾아 올해 2월부터 본격 가동을 시작한 EUV 전용 반도체 생산라인을 직접 살펴보고 임직원들을 격려했다고 발표했다.

EUV는 Extreme Ultra Violet의 약자로 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 불화아르곤(ArF)을 이용한 기존 기술보다 세밀한 회로 구현이 가능해 고성능·저전력 반도체를 만드는데 필수적이다.

이 부회장이 방문한 'V1 라인'은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인으로 최근 본격적으로 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했으며, 앞으로 차세대 파운드리 제품을 주력으로 생산할 계획임

이 부회장은 "지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고, 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었음. 이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 말했다.

삼성전자는 지난해 ‘반도체 비전 2030’ 을 발표하며 시스템반도체에 133조원을 투자하고 1만 5000명을 채용할 계획임을 밝혔다.

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